K. Teshima, Y. Inoue, H. Sugimura, O. Takai: "Room Temperature Deposition of High-purity Silicon Oxide Films by rf Plasma-enhanced CVD"Surf. Coat. Technol.. (in press).
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K. Teshima、Y. Inoue、H. Sugimura、O. Takai：“通过射频等离子体增强 CVD 进行高纯度氧化硅薄膜的室温沉积”Surf。
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