Atmospheric-pressure plasma-enhanced CVD for low-temperature rapid synthesis of silica membranes
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复制标题
大气压等离子体增强CVD低温快速合成二氧化硅膜
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Toshinori Tsuru
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroki Nagasawa,Takahiko Kagawa;Masakoto Kanezashi;Toshinori Tsuru
