Nitriding Mechanism of Titanium Thin Film by Ion Implantation

Nitriding Mechanism of Titanium Thin Film by Ion Implantation
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钛薄膜离子注入渗氮机理

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
Materia Japan 45-1
影响因子:
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通讯作者:
Y.Kasukabe
Y.Kasukabe
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
K.Tanaka;Y.Komatsu;C-K.Choo;Y.Kasukabe

文献摘要

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