Electronic states of topological line-node semimetal HfSiS studied by high-resolution ARPES
Electronic states of topological line-node semimetal HfSiS studied by high-resolution ARPES
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高分辨率 ARPES 研究拓扑线结半金属 HfSiS 的电子态
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Daichi Takane
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Koreeda;Y. Fujii;H. Sakai;T. Notake;and Y. Minamide;Daichi Takane
