Plasma enhanced CVD silicon oxide films for integrated optic applications
Plasma enhanced CVD silicon oxide films for integrated optic applications
复制标题
用于集成光学应用的等离子体增强 CVD 氧化硅薄膜
DOI：
10.1016/s0042-207x(98)00299-1
复制
发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
N. Zine
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
C. Domínguez;J. Rodríguez;F. J. Muñoz;N. Zine
