Effects of heat treatment and in-situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 film
Effects of heat treatment and in-situ high temperature XRD study on the formation of ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 film
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热处理及原位高温XRD对铁电外延Y掺杂HfO2薄膜形成的影响研究
DOI：
10.7567/1347-4065/aafed1
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Hiroshi Funakubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takanori Mimura;Takao Shimizu;Takanori Kiguchi;Akihiro Akama;Toyohiko J. Konno;Yoshio Katsuya;Osami Sakata;and Hiroshi Funakubo
