The Ba/Si(100)-2 × 1 interface. I: XPS and XAES studies of silicide formation
The Ba/Si(100)-2 × 1 interface. I: XPS and XAES studies of silicide formation
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Ba/Si(100)-2 × 1 界面 I：硅化物形成的 XPS 和 XAES 研究。
DOI：
10.1016/0039-6028(92)90022-x
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发表时间：
1992
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
P. Heide
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Weijs;J. Fuggle;P. Heide
