Thermomechanical Resist Removal-Cleaning System Using Cryogenic Micro-Slush Jet

Thermomechanical Resist Removal-Cleaning System Using Cryogenic Micro-Slush Jet
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使用低温微泥射流的热机械抗蚀剂去除清洗系统

DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
Proceedings of The Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS)
影响因子：
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通讯作者：
Jun Ishimoto
Jun Ishimoto
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
T.Masuzawa;A.Ohta;N.Tanaka;Y.Qian;T.Tsukiya;矢野,足立,堀,千田,藤本;Jun Ishimoto

文献摘要

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