Properties of amorphous carbon films prepared by high power pulsed sputtering with two facing targets
Properties of amorphous carbon films prepared by high power pulsed sputtering with two facing targets
复制标题
两靶高功率脉冲溅射制备非晶碳薄膜的性能
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Setsuo Nakao
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takashi Kimura;Toshihiko Mishima;Kingo Azuma;Setsuo Nakao
