Formation of highly oriented layer-structured Er2SiO5 films by pulsed laser deposition
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DOI：
10.1016/j.physe.2008.08.013
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发表时间：
2009-05
影响因子：
3.3
通讯作者：
T. Kimura;Yasuhito Tanaka;H. Ueda;H. Isshiki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Kimura;Yasuhito Tanaka;H. Ueda;H. Isshiki
