Selective Etching of Silicon Nitride Film on Single Crystalline Silicon Solar Cell Using Intensive Surface Discharge
Selective Etching of Silicon Nitride Film on Single Crystalline Silicon Solar Cell Using Intensive Surface Discharge
复制标题
利用强表面放电选择性刻蚀单晶硅太阳能电池上的氮化硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tatsuya Sakoda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Arakawa;T. Hamada;T. Sakoda;M. Otsubo;Toshiyuki Hamada;N. Ezumi;江角直道;Shunichi Arakawa;N.Ezumi;Tatsuya Sakoda
DOI：
10.1143/jjap.42.6578
发表时间：
2003-10-01
期刊：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
影响因子：
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作者：
Ahn, HS;Hayashi, N;Yamabe, C
通讯作者：
Yamabe, C