Non-destructive Characterization of Oxide/Ge Interface by Photoluminescence Measurement
Non-destructive Characterization of Oxide/Ge Interface by Photoluminescence Measurement
复制标题
通过光致发光测量无损表征氧化物/Ge 界面
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Yajima and A. Toriumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Kabuyanagi;T. Nishimura;T. Yajima and A. Toriumi
