Surface coating of small SiO_2 particles with a WO_3 thin film by barrel-sputtering method
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滚筒溅射法在小SiO_2颗粒表面涂覆WO_3薄膜
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takayuki Abe et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Nakayama;S.Goto;Y.Uchimoto;M.Wakihara;Y.Kitajima;T.Miyanaga;I.Watanabe;Yoshiharu Uchimoto 他;M.Ishikawa;M.Ishikawa;M.Morita;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;M.Ishikawa;I.Murayama;M.Ishikawa;M.Ishikawa;石川 正司;I.Murayama;M.Ishikawa;石川 正司;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;N.Yoshimoto;M.Morita;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;石川 正司;M.Ishikawa;石川 正司;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Satoshi Akamaru et al.;N.Kumada et al.;Takayuki Abe et al.;Masanori Hara et al.;Takayuki Abe et al.;北見知士 他;Tomohito kitami et al.;Takayuki Abe et al.
