Low-Temperature Removal of Dissociated Bromine by Silicon Atoms for an On-Surface Ullmann Reaction
Low-Temperature Removal of Dissociated Bromine by Silicon Atoms for an On-Surface Ullmann Reaction
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DOI：
10.1021/acs.jpcc.0c06188
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发表时间：
2020-08
影响因子：
3.7
通讯作者：
K. Sun;T. Nishiuchi;Keisuke Sahara;T. Kubo;A. Foster;S. Kawai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Sun;T. Nishiuchi;Keisuke Sahara;T. Kubo;A. Foster;S. Kawai
表面乌尔曼（Ullmann）型反应被广泛用于通过自下而上的方法，经由脱卤作用使小的烃类化合物共轭，从而制备各种碳纳米结构。在该反应中，…… （你提供的内容“the disso...”不完整，所以此处省略号代表未完整翻译部分 ）
On-surface Ullmann-type reactions are widely used to fabricate various carbon nanostructures in a bottom-up approach by conjugating small hydrocarbons via dehalogenation. In the reaction, the disso...