Masami Morooka: "Improvement in Sensitivity for Brief Measurement of Diffusion Profiles of Deep Impurities in Semiconductors Based on an Angle-Lapped Surface." Res.Bull.Fukuoka Inst.Tech.Vol.31,No1. 43-50 (1998)
Masami Morooka: "Improvement in Sensitivity for Brief Measurement of Diffusion Profiles of Deep Impurities in Semiconductors Based on an Angle-Lapped Surface." Res.Bull.Fukuoka Inst.Tech.Vol.31,No1. 43-50 (1998)
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Masami Morooka：“基于角度研磨表面，提高半导体深层杂质扩散分布的简要测量灵敏度。”
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