意匠権と商標権の重畳的保護に関する考察
意匠権と商標権の重畳的保護に関する考察
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关于外观设计权与商标权重叠保护的思考
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
村上画里
中科院分区：
文献类型：
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作者：
西村智朗（編著）・山田健吾（編著）;Uchralt Otede（著）・岩﨑恭彦（著）・倉澤生雄（著）・鳥谷部壌（著）・遠井朗子（著）・庄村勇人（著）・Yonjae Paik（著）・Christopher McElwain（著）・岡松暁子（著）;山城一真;上田真二;山城一真;鎌野邦樹;村井麻衣子;鎌野邦樹;山城一真;村井麻衣子;山城一真;鎌野邦樹;村井麻衣子;山城一真;村井麻衣子;鎌野邦樹;山城一真;村井麻衣子;鎌野邦樹;山城一真;鎌野邦樹;田村善之・編著（執筆担当部分：村井麻衣子「著作権の制限規定の立法をめぐる今後の課題──2018年・2021年著作権法改正を踏まえて」（pp.217-234））;山城一真;鳥山恭一;船越資晶;鎌野邦樹;村上画里
