光脱保護を利用した光学活性なBINOLを基盤とするMOFの合成
光脱保護を利用した光学活性なBINOLを基盤とするMOFの合成
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利用光脱保护合成光学活性 BINOL 基 MOF
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
武内 亮
中科院分区：
文献类型：
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作者：
澤野 卓大;片口 宙;後藤 祐汰;荒船 博之;武内 亮
