S.Imai et.al.: "Atomic Layr Etching of Silicon Using Thermal Desorption Method" Japan Journal Applied Physics. (Submitted).
S.Imai et.al.: "Atomic Layr Etching of Silicon Using Thermal Desorption Method" Japan Journal Applied Physics. (Submitted).
复制标题
S.Imai 等人：“使用热脱附法的硅原子层蚀刻”日本应用物理学杂志。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
