RFマグネトロンスパッタリング法によりSi基板上に製膜した熱放射率可変材料(La1-xSrxMnO3-δ)薄膜の評価
RFマグネトロンスパッタリング法によりSi基板上に製膜した熱放射率可変材料(La1-xSrxMnO3-δ)薄膜の評価
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射频磁控溅射法在硅基片上沉积热发射率可变材料（La1-xSrxMnO3-δ）薄膜的评价
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
太刀川純孝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
渡瀬彩登;森祐子;塩田忠;西山昭雄;クロスジェフリー;櫻井修;篠崎和夫;脇谷尚樹;太刀川純孝
