Doping nature of Cu in epitaxial topological insulator Bi2Te3 thin films
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DOI：
10.1016/j.susc.2013.06.018
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发表时间：
2013-11
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
Xiegang Zhu;J. Wen;Guang Wang;Xiangshan Chen;J. Jia;J. Jia;Xucun Ma;K. He;Lili Wang;Q. Xue;Q. Xue
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Xiegang Zhu;J. Wen;Guang Wang;Xiangshan Chen;J. Jia;J. Jia;Xucun Ma;K. He;Lili Wang;Q. Xue;Q. Xue
