Effect of rf bias on properties of amorphous silicon oxide films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition
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射频偏压对等离子体增强化学气相沉积非晶氧化硅薄膜性能的影响
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masaharu Shiratani
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akihiro Yamamoto;Kohei Abe;Iori Nagao;Michihiro Otaka;Daisuke Yamashita;Kunihiro Kamataki;Takamasa Okumura;Naho Itagaki;Kazunori Koga1;Masaharu Shiratani
