Tatsuru Shirafuji: "In situ ellipsometric monitoring of low temperature growth of poly-Si films by RF plasma CVD" Meterials Research Society Symposium Proceedings. 336. 73-78 (1994)

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Tatsuru Shirafuji:“通过射频等离子体 CVD 对多晶硅薄膜的低温生长进行原位椭圆测量监测”材料研究学会研讨会论文集。

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