Strain engineering of Si/Ge heterostructures on Ge-on-Si platform
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复制标题
Ge-on-Si 平台上 Si/Ge 异质结构的应变工程
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Michihiro Yamada and Kohei Hamaya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kentarou Sawano;Youya Wagatsuma;Md. Mahfuz Alam;Kaisei Omata;Kenta Niikura;Shougo Shibata;Yusuke Hoshi;Michihiro Yamada and Kohei Hamaya
