Development of High-speed and Environmentally Friendly Photoresist Removal Process using Pulsed Microwave Plasma in Water Vapor
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水蒸气中脉冲微波等离子体高速环保光刻胶去除工艺的开发
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Horibe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Ishijima; T. Kitano;T. Ito;H. Suzuki;Y. Tanaka;Y. Uesugi;T. Nishiyama;H. Horibe
