Molecular Dynamics Simulation of Thermal Properties of Nanoscale Silicon Structures Covered with Oxide Film
Molecular Dynamics Simulation of Thermal Properties of Nanoscale Silicon Structures Covered with Oxide Film
复制标题
氧化膜纳米硅结构热性能的分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takanobu Watanabe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Zhang;R. Akiyama;K. Kanazawa;S. Kuroda;H. Ofuchi;Takanobu Watanabe
