A −188 V 7.2 Ω·mm2, P-channel high voltage device formed on an epitaxy-SIMOX substrate

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DOI:
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发表时间:
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期刊:
影响因子:
1.7
通讯作者:
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中科院分区:
物理与天体物理3区
文献类型:
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作者:
Wu Li-Juan;Hu Sheng- Dong;Zhang Bo;

文献摘要

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