Improvement of crystal quality of a homoepitaxially grown diamond layer by a plasma etching treatment for a diamondsubstrate
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通过对金刚石基体进行等离子体蚀刻处理来提高同质外延生长金刚石层的晶体质量
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Michihiro Furusaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuta Konno;Junichi H Kaneko;Fumiyuki Fujita;Hideyuki Watanabe;Kei Sato;Akinori Kakimoto;Sinichi Shikata;Akira Homma;Michihiro Furusaka
