Ir(111)/alpha-Al2O3(0001)基板を用いたグラフェンのLP-CVD成長
Ir(111)/alpha-Al2O3(0001)基板を用いたグラフェンのLP-CVD成長
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使用 Ir(111)/α-Al2O3(0001) 衬底的 LP-CVD 生长石墨烯
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
黄 晋二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
齋藤 祐太;島田 諒人;児玉 英之;澤邊 厚仁;黄 晋二
