位置選択的ウェットエッチングによる多段SOI基板の作製－インクジェットマスクパターンの導入－
位置選択的ウェットエッチングによる多段SOI基板の作製－インクジェットマスクパターンの導入－
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位置选择湿法刻蚀多级SOI衬底的制作-喷墨掩模图案介绍-
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高橋 和
中科院分区：
文献类型：
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作者：
桑原 充輝;田中 捺美;高橋 和
