セシウムテルライド薄膜フォトカソードの電子親和性
セシウムテルライド薄膜フォトカソードの電子親和性
复制标题
碲化铯薄膜光电阴极的电子亲和势
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
杉山 陽栄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Sugivama;K. Ogawa;J. Azuma;K. Takahashi;and M. Kamada;杉山 陽栄
