Y.Ishikawa: "Diffusion of Phosphorus and Boron into Silicon at Low Temperatures by Heating with Light Irradiation" Japanese Journal of Applied Physics. vol.36. 7433-7436 (1997)
Y.Ishikawa: "Diffusion of Phosphorus and Boron into Silicon at Low Temperatures by Heating with Light Irradiation" Japanese Journal of Applied Physics. vol.36. 7433-7436 (1997)
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Y.Ishikawa：“通过光照射加热在低温下将磷和硼扩散到硅中”日本应用物理学杂志。
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