III-V族窒化物半導体の欠陥評価最前線
III-V族窒化物半導体の欠陥評価最前線
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III-V族氮化物半导体缺陷评估最前沿
DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
秩父重英,上殿明良
中科院分区:
文献类型:
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作者:
花房宏明; 広瀬信光;笠松章史;三村高志;松井敏明; 須田良幸;野崎 眞次;秩父重英,上殿明良