PLASMA ETCHING OF SI AND SIO2 - EFFECT OF OXYGEN ADDITIONS TO CF4 PLASMAS
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DOI：
10.1063/1.325382
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发表时间：
1978-01-01
影响因子：
3.2
通讯作者：
FLAMM, DL
中科院分区：
文献类型：
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作者：
MOGAB, CJ;ADAMS, AC;FLAMM, DL
