Production MeV ion implanters for energies from 200 keV to 4 MeV
Production MeV ion implanters for energies from 200 keV to 4 MeV
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生产 MeV 离子注入机，能量范围为 200 keV 至 4 MeV
DOI：
10.1016/0168-583x(87)90840-8
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发表时间：
1987
影响因子：
1.3
通讯作者：
G. Norton
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Rathmell;G. Norton
