Characterization of Si etching with N-fluoropyridinium salt
Characterization of Si etching with N-fluoropyridinium salt
复制标题
N-氟吡啶鎓盐硅蚀刻的表征
DOI：
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发表时间：
2012
影响因子：
2.4
通讯作者：
and Mizuho Morita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kentaro Tsukamoto;Junichi Uchikoshi;Masaki Otani;Toshinori Hirano;Yutaka Ie;Takabumi Nagai;Kenji Adachi;Kentaro Kawai;Kenta Arima;and Mizuho Morita
