Epitaxial growth of InN film on intermediate oxide buffer layer by RF-MOMBE

Epitaxial growth of InN film on intermediate oxide buffer layer by RF-MOMBE
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RF-MOMBE 在中间氧化物缓冲层上外延生长 InN 薄膜

DOI:
10.1016/j.diamond.2011.06.006
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发表时间:
2011
影响因子:
4.1
通讯作者:
H. Pan
H. Pan
中科院分区:
材料科学2区
文献类型:
--
作者:
S. Kuo;F. Lai;Wei;Woei;C. Hsiao;Hsin;H. Pan

文献摘要

参考文献

被引文献

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作者:
A. Yamamoto;H. Miwa;A. Hashimoto
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