Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Study on Depth Profile Prediction in Low Energy Boron Implantation Process
Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Study on Depth Profile Prediction in Low Energy Boron Implantation Process
复制标题
低能硼注入过程深度剖面预测的紧束缚量子化学分子动力学研究
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Tsuboi et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
ADACHI;Kenta;H.Tsuboi et al.
等离子体蚀刻过程的量子化学分子动力学模拟
影响因子：
1.5
作者：
Katsumi Sasata;T. Yokosuka;Hitoshi Kurokawa;S. Takami;M. Kubo;A. Imamura;T. Shinmura;M. Kanoh;P. Selvam;A. Miyamoto
通讯作者：
A. Miyamoto