Initial stages of nitridation of Si(111) surfaces: X-ray photoelectron spectroscopy and scanning tunneling microscopy studies
Initial stages of nitridation of Si(111) surfaces: X-ray photoelectron spectroscopy and scanning tunneling microscopy studies
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Si(111) 表面氮化的初始阶段：X 射线光电子能谱和扫描隧道显微镜研究
DOI：
10.1016/s0039-6028(96)01314-3
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发表时间：
1997
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
Takeshi Yamamoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Tabe;Takeshi Yamamoto
