M.Ito et al.: "Silicon oxide etching process using electron beam excited CF_4/Ar plasmas"Conference proceedings of Joint conference 16^<th> European conference on atomic & molecular physics on ionized gases/5^<th> International conference on reactive plas
M.Ito et al.: "Silicon oxide etching process using electron beam excited CF_4/Ar plasmas"Conference proceedings of Joint conference 16^<th> European conference on atomic & molecular physics on ionized gases/5^<th> International conference on reactive plas
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M.Ito 等：“使用电子束激发 CF_4/Ar 等离子体的氧化硅蚀刻工艺”第 16 届欧洲原子会议联合会议会议论文集
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