スパッタイオンプレーティング法によるCuシード膜の作製
スパッタイオンプレーティング法によるCuシード膜の作製
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溅射离子镀法制备Cu籽晶膜
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
近藤 和夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
丸中 正雄;土屋 貴之;林 太郎;岡本 尚樹 ;齊藤 丈靖;横井 昌幸;近藤 和夫
