In situ monitoring of impact process via high-speed video camera in plasma spraying
In situ monitoring of impact process via high-speed video camera in plasma spraying
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通过高速摄像机现场监测等离子喷涂冲击过程
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kentaro Shinoda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kentaro Shinoda;Hideyuki Murakami;Seiji Kuroda;Sachio Oki;Kohsei Takehara;土谷博昭;Kentaro Shinoda;土谷博昭;Kentaro Shinoda;土谷博昭;Kentaro Shinoda
