T.Yoshitake.T.Hanada, and K,Nagayama: "Low Temperature Growth of beta-FeSi_2 Films in Si(III) by RF Magnetron Sputtering Using a FeSi2 Alloy Target"Journal of Materials Science Letters. 19. 537-538 (2000)
T.Yoshitake.T.Hanada, and K,Nagayama: "Low Temperature Growth of beta-FeSi_2 Films in Si(III) by RF Magnetron Sputtering Using a FeSi2 Alloy Target"Journal of Materials Science Letters. 19. 537-538 (2000)
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T.Yoshitake.T.Hanada 和 K,Nagayama：“使用 FeSi2 合金靶通过射频磁控管溅射在 Si(III) 中低温生长 β-FeSi_2 薄膜”材料科学快报杂志。
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