太田理一郎, 李庚晃, 齋藤永宏, 井上泰志, 杉村博之, 高井治: "非経験的分子軌道法支援によるアモルファス窒化炭素膜の化学結合状態:X線光電子分光スペクトルの解釈"表面技術. 54. 769-775 (2003)
太田理一郎, 李庚晃, 齋藤永宏, 井上泰志, 杉村博之, 高井治: "非経験的分子軌道法支援によるアモルファス窒化炭素膜の化学結合状態:X線光電子分光スペクトルの解釈"表面技術. 54. 769-775 (2003)
复制标题
Riichiro Ota、Gengaki Lee、Nagahiro Saito、Yasushi Inoue、Hiroyuki Sugimura、Osamu Takai：“从头开始分子轨道方法支持的非晶氮化碳薄膜的化学键合状态：X射线光电子能谱的解释”表面技术54.769。 -775 (2003)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
