Critical Path Isolation and Bit-Width Scaling Are Highly Compatible for Voltage Over-Scalable Design
Critical Path Isolation and Bit-Width Scaling Are Highly Compatible for Voltage Over-Scalable Design
复制标题
关键路径隔离和位宽缩放对于电压超缩放设计高度兼容
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Masanori Hashimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yutaka Masuda;Jun Nagayama;TaiYu Cheng;Tohru Ishihara;Yoichi Momiyama;and Masanori Hashimoto
