Origin of RHEED Intensity Oscillation during Growth on Si(001) Surface
Origin of RHEED Intensity Oscillation during Growth on Si(001) Surface
复制标题
Si(001) 表面生长过程中 RHEED 强度振荡的起源
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Kawamura P.A.Maksym
中科院分区：
文献类型：
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作者：
内藤賀公;馬宗敏;李艶君;菅原康弘;T. Kawamura P.A.Maksym
