Helium and Oxygen Plasma Treatment on ZnO Thin Films Fabricated Using Atmospheric Cold Plasma
Helium and Oxygen Plasma Treatment on ZnO Thin Films Fabricated Using Atmospheric Cold Plasma
复制标题
对使用大气冷等离子体制造的 ZnO 薄膜进行氦和氧等离子体处理
DOI：
10.2493/jjspe.84.284
复制
发表时间：
2018
影响因子：
--
通讯作者：
須崎 嘉文
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
馬 暁媛;藤堂 卓也;須崎 嘉文
