T.Kozawa, A.Saeki, Y.Yoshida, S.Tagawa: "Study on Radiation-Induced Reaction in Microscopic Region for Basic Understanding of Electron Beam Patterning in Lithographic Process(I)"Japanese Journal of Applied Physics. 41. 4208-4212 (2002)
T.Kozawa, A.Saeki, Y.Yoshida, S.Tagawa: "Study on Radiation-Induced Reaction in Microscopic Region for Basic Understanding of Electron Beam Patterning in Lithographic Process(I)"Japanese Journal of Applied Physics. 41. 4208-4212 (2002)
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T.Kozawa、A.Saeki、Y.Yoshida、S.Takawa：“微观区域辐射诱导反应的研究，以基本了解光刻过程中的电子束图案化(I)”日本应用物理学杂志。
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