Effect of Peak Current Density on Inner-wall Deposition of Ti Films by High-power Impulse Magnetron Sputtering
Effect of Peak Current Density on Inner-wall Deposition of Ti Films by High-power Impulse Magnetron Sputtering
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峰值电流密度对高功率脉冲磁控溅射内壁沉积Ti薄膜的影响
DOI：
10.1380/vss.63.404
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
清水 徹英
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小宮 英敏;寺西 義一;シャア アナ;楊 明;清水 徹英
