Si(111)上ZrB2薄膜の窒化による単原子層hBNの形成
Si(111)上ZrB2薄膜の窒化による単原子層hBNの形成
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Si(111)上氮化ZrB2薄膜形成单原子层hBN
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高村(山田) 由起子
中科院分区：
文献类型：
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作者：
青柳 航平;ライナー フリードライン;アントワーヌ フロランス;フローリアン ジャンベール;尾崎 泰助;高村(山田) 由起子
