表观遗传修饰应用于真菌次级代谢调控研究的最新进展
表观遗传修饰应用于真菌次级代谢调控研究的最新进展
复制标题
DOI：
10.13400/j.cnki.cjmd.2021.03.008
复制
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
王乂
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
侯成凤;贺星星;杨立远;王雨晴;朱伟明;王乂
